对于芯片的先进制程,台积电、Intel、三星都拼得很凶。
在近日举办的第52届设计自动化会议中,台积电设计技术平台副处长Willy Chen又对外详细介绍了16nm和10nm FinFET工艺的情况并称,16nm的设计流程早已准备就绪,目前已进入可实际设计芯片的状态。
而对于10nm,台积电称,调整了规则检查和集成成分提取器后,第一款集成四核ARM Cortex-A57的验证芯片已经送厂生产,这比4月份财务会议说的第四季度又有提前,明年风险试产将不会问题。
对于1Xnm来说,苹果的A9、骁龙820、麒麟950等手机厂都在争夺,而NV的Pascal、AMD的Zen也会正式迈进。
据说后年台积电还会祭出7nm(四重曝光设计),比Intel还要快,这回可真是好看了。
转自 http://news.mydrivers.com/1/437/437654.htm
时间:2015-07-07 21:52
来源:快科技
作者:万南
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